特許
J-GLOBAL ID：201103080019524830
高位合成システム、高位合成方法、および、高位合成方法の実施に使用される記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-020974
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209670
特許番号：特許第3370304号
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理の動作のみを記述した動作記述を、演算間の実行順序の依存関係を表現するコントロールデータフローグラフ(CDFG)と呼ばれるモデルに変換するモデル変換手段と、前記CDFGの各演算および入出力を、ステップと呼ばれる状態遷移機械の状態に対応した時間にそれぞれ割り当てるスケジューリング処理するスケジューリング処理手段と、スケジューリングされたCDFGの実行に必要な演算器、レジスタ、入出力ピンを、CDFGの演算、各ステップのクロック境界を横切るデータ依存枝、入出力に、それぞれ割り当てるアロケーション手段と、CDFGのデータ依存枝に対応した回路のパスをデータパスとして生成し、生成されたデータパスから、各ステップにてそれぞれアクティブになるトゥルー(true)パスを検出するデータパス生成手段と、該検出されたトゥルー(true)パスの部分パスを組合せて生成されるパスから、トゥルー(true)パスに含まれないパスとして、トゥルー(true:真)パスの部分パス同士の組合せ、全体がアクティブにならないフォールス(false)パスの部分パス同士の組合せ、または、トゥルー(true)パスの部分パスとフォールス(false)パスの部分パスとの組合せにて生成されるフォールス(false)パスを検出するフォールス(false)パス検出手段とを有し、レジスタトランスファレベルの論理回路を自動生成することを特徴とする高位合成システム。
IPC (2件)：
G06F 17/50 654
, G06F 17/50 656
G06F 17/50 654 M
, G06F 17/50 656 D
