特許

J-GLOBAL ID：201103080082652997

励起され又はイオン化された粒子をプラズマ内で発生する装置

発明者： ステインハード, ヘインツ ,  マツニ, ジョセフ ,  グチュワンドナー, アレクサンダー
出願人/特許権者： アール3ティー ゲーエムベーハー ラピド リアクティブ ラジカル テクノロジー
代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-577693
特許番号：特許第3527475号
出願日： 1999年10月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 電磁波を発生する発生器(11)、電磁波が案内される同軸導体(30)、並びに励起された及び/又はイオン化された粒子が電磁波で形成されるような少なくとも1つのプラズマ帯域(20)により、処理ガスから、励起された及び/又はイオン化された粒子をプラズマ内で発生する装置であって、外側導体(18)と内側導体(19)の間の同軸導体(30)の内部室(31)内にいたる処理ガスの入口として入口(17)が利用可能であること及び内部室がプラズマ帯域(20)を形成すること及び内側導体(19)を変位可能とすることでプラズマ帯域(20)の長さが可変できることを特徴とする装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

B01J 19/08 H ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 101 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-108809   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭59-161035
  
• 特開昭53-131977