特許
J-GLOBAL ID：201103080530690218
ウェハ乾燥装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331255
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223466
特許番号：特許第3247673号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 純水(40)内にウェハ(2)を浸漬可能な乾燥室(1)と、上記乾燥室内の上記純水の液面上の空間(4)内に窒素ガスを噴射させると同時に液相のイソプロピルアルコールを上記ウェハの温度より高い温度でかつ上記窒素ガスの噴射開口近傍で噴射させてミスト状のイソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させるミスト噴霧装置(3,23)とを備えて、上記ミスト噴霧装置(23)は、上記窒素ガスを噴射させる第1噴射孔(3e)と、該噴射孔の近傍に配置されかつ上記液相のイソプロピルアルコールを噴射させる第2噴射孔(3f)とを備え、上記第1噴射孔から上記窒素ガスを噴射させると同時に上記第2噴射孔から上記液相のイソプロピルアルコールを噴射させて、上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させる装置であり、上記乾燥室の上記純水を排出するか又は上記ウェハを上記乾燥室内で上昇させることにより、上記乾燥室内で上記純水から上記ウェハが液面より上方に露出するとき、上記ウェハの表裏両面に付着した純水が上記ミスト状の上記イソプロピルアルコールにより置換され、その後、上記ウェハの表裏両面から上記イソプロピルアルコールが蒸発することにより乾燥されるようにしたことを特徴とするウェハ乾燥装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 651
, B05B 7/02
, F26B 5/16
, F26B 13/24
, F26B 7/00
H01L 21/304 651 H
, B05B 7/02
, F26B 5/16
, F26B 13/24
, F26B 7/00
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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