特許
J-GLOBAL ID：201103081019153251
シリカ粒子材料、シリカ粒子材料含有組成物、およびシリカ粒子の表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-081844
公開番号（公開出願番号）：特開2011-213514
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：
【課題】取り扱い性に優れるシリカ粒子材料、および、シリカ粒子を表面処理し取り扱い性に優れるシリカ粒子材料を得るための表面処理方法を提供すること。【解決手段】シリカ粒子をシランカップリング剤とオルガノシラザンとで表面処理してシリカ粒子材料を得る。シランカップリング剤とオルガノシラザンとのモル比を特定の範囲にすることで、シリカ粒子材料の表面に存在するX1(フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基)とR(炭素数1〜3のアルキル基)との存在数比を特定の範囲にし、樹脂に対する親和性と凝集抑制とを両立させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
式(1):-OSiX1X2X3で表される官能基と、式(2):-OSiY1Y2Y3で表される官能基とがシリカ粒子の表面に結合していることを特徴とするシリカ粒子材料。
(上記式(1)、(2)中;X1はフェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基であり;X2、X3は-OSiR3及び-OSiY4Y5Y6よりそれぞれ独立して選択され;Y1はRであり;Y2、Y3はR及び-OSiY4Y5Y6よりそれぞれ独立して選択される。Y4はRであり;Y5及びY6は、R及び-OSiR3からそれぞれ独立して選択され;Rは炭素数1〜3のアルキル基から独立して選択される。なお、X2、X3、Y2、Y3、Y5、及びY6の何れかは、隣接する官能基のX2、X3、Y2、Y3、Y5、及びY6の何れかと-O-にて結合しても良い。)
IPC (2件)：
C01B 33/146
, C01B 33/148
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072DD07
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH18
, 4G072HH28
, 4G072HH30
, 4G072JJ14
, 4G072LL11
, 4G072MM22
, 4G072MM23
, 4G072MM31
, 4G072QQ07
, 4G072TT01
, 4G072UU09
