特許
J-GLOBAL ID：200903087652351380

疎水性シリカ粉末の製造法

発明者：
吉武 桂子

吉武 桂子 について

, 
加藤 博和

加藤 博和 について


出願人/特許権者：
日産化学工業株式会社

日産化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-180336
公開番号（公開出願番号）：特開2007-039323
出願日： 2006年06月29日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
【課題】 簡素な疎水化処理工程による疎水性シリカ粉末の製造法を提供すること。【解決手段】 比表面積5.5〜550m2/gの親水性コロイド状シリカを含有する水性シリカゾルに、該水性シリカゾルの水に対して親水性有機溶媒を質量比0.12〜2.5で混合して得られる、シリカ濃度5〜50質量%の混合溶媒シリカゾルに、式(1)(R13Si)2NH (1)(式中の各R1はそれぞれ独立に選択される炭素原子数が1〜6のアルキル基またはフェニル基である。)で表されるジシラザン化合物を、親水性コロイド状シリカの表面積100m2当たり0.1〜20ミリモル添加し、50〜100°Cの温度で加熱して熟成することにより疎水化処理コロイド状シリカのスラリー状分散液を得る疎水化処理工程を含む疎水性シリカ粉末の製造法による。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
比表面積5.5〜550m2/gの親水性コロイド状シリカを含有する水性シリカゾルに、該水性シリカゾルの水に対して親水性有機溶媒を質量比0.12〜2.5で混合して得られる、シリカ濃度5〜50質量%の混合溶媒シリカゾルに、式(1) (R13Si)2NH (1) (式中の各R1はそれぞれ独立に選択される炭素原子数が1〜6のアルキル基またはフェニル基である。) で表されるジシラザン化合物を、親水性コロイド状シリカの表面積100m2当たり0.1〜20ミリモル添加し、50〜100°Cの温度で加熱して熟成することにより疎水化処理コロイド状シリカのスラリー状分散液を得る疎水化処理工程を含む疎水性シリカ粉末の製造法。
IPC (3件)：
C01B 33/18 ,  C01B 33/146 ,  C09K 3/18
FI (3件)：
C01B33/18 C ,  C01B33/146 ,  C09K3/18 104
Fターム (15件)：
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072HH28 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072MM40 ,  4G072PP06 ,  4G072QQ07 ,  4G072TT01 ,  4G072TT30 ,  4G072UU07 ,  4H020AA01 ,  4H020BA34
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (1件)

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