低速多価イオンビームの発生装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上島淳一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-019487
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210247
特許番号：特許第3449473号
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ターゲット原子をレーザー冷却するためのレーザー光を出射する第1のレーザー手段と、ターゲット原子から多価イオンを発生させるためのレーザー光を出射する第2のレーザー手段と、前記第1のレーザー手段から出射されたレーザー光によってターゲット原子をレーザー冷却してトラップする第1のトラップ制御手段と、前記第1のトラップ制御手段によってトラップされたターゲット原子を入力して、前記第1のレーザー手段から出射されたレーザー光によって該入力したターゲット原子をレーザー冷却してトラップするとともに、前記第2のレーザー手段から出射されたレーザー光によって該トラップしたターゲット原子から多価イオンを発生させ、該発生された多価イオンのなかで所定の価数の多価イオンのみをトラップするとともに、トラップした多価イオンを所定の運動エネルギーで所定の方向に出力する第2のトラップ制御手段とを有するものである低速多価イオンビームの発生装置。

IPC (4件)：

H01J 27/24 , H01J 37/08 , B23K 15/00 508 , C23F 4/00

FI (4件)：

H01J 27/24 , H01J 37/08 , B23K 15/00 508 , C23F 4/00 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

表面処理方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-016683 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-067599
レーザイオン化質量分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-228284 出願人：日本鋼管株式会社

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