特許
J-GLOBAL ID：201103081521521086
近接場光発生装置およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
星宮 勝美
, 渡邊 和浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-291784
公開番号（公開出願番号）：特開2011-008899
出願日： 2009年12月24日
公開日（公表日）： 2011年01月13日
要約：
【課題】導波路上に緩衝層および密着層を介して近接場光発生素子が配置された構成の近接場光発生装置において、近接場光発生素子の剥離を防止し、且つ導波路を伝播する光の利用効率の、密着層に起因した低下を抑制する。【解決手段】近接場光発生装置15は、導波路31と、導波路31の上面31cの上に配置された緩衝層33と、金属層が不完全に酸化されて形成され、緩衝層33の上に配置された密着層38と、密着層38の上に配置された近接場光発生素子32を備えている。密着層38の面積抵抗の値は、酸化されていない金属層の面積抵抗の値よりも大きく、金属層が完全に酸化されて形成された層の面積抵抗の値よりも小さい。緩衝層33、密着層38および近接場光発生素子32からなる積層体におけるピール試験による付着強度は、緩衝層33および近接場光発生素子32からなる積層体における付着強度よりも大きい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
上面を有し、光を伝播させる導波路と、
前記導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有し、前記導波路の上面の上に配置された緩衝層と、
金属層が不完全に酸化されて形成され、前記緩衝層の上に配置された密着層と、
前記密着層の上に配置された近接場光発生素子とを備え、
前記密着層の面積抵抗の値は、酸化されていない前記金属層の面積抵抗の値よりも大きく、前記金属層が完全に酸化されて形成された層の面積抵抗の値よりも小さく、
前記緩衝層、密着層および近接場光発生素子からなる積層体におけるピール試験による付着強度は、前記緩衝層および近接場光発生素子からなる積層体におけるピール試験による付着強度よりも大きく、
前記近接場光発生素子は、前記密着層および緩衝層を介して前記導波路の上面に対向する結合部と、近接場光を発生する近接場光発生部とを有し、
前記結合部において、前記導波路と前記緩衝層との界面において発生するエバネッセント光と結合することによって表面プラズモンが励起され、この表面プラズモンが前記近接場光発生部に伝播され、この表面プラズモンに基づいて前記近接場光発生部より前記近接場光が発生されることを特徴とする近接場光発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
5D033BB51
, 5D033CA00
, 5D091AA10
, 5D091CC30
, 5D091DD03
