特許
J-GLOBAL ID：201103081900932310
部分炭素化された非対称性中空糸分離膜とその製法およびガス分離方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-058760
公開番号（公開出願番号）：特開2000-342944
特許番号：特許第4081956号
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 芳香族ポリイミドからなる非対称性構造を有する中空糸分離膜(前駆体膜)を部分炭素化して得られた非対称性構造を有する中空糸分離膜において、
(1)部分炭素化される芳香族ポリイミド中空糸膜(前駆体膜)の膜厚が8〜50μmであり
(2)部分炭素化して得られた中空糸分離膜の膜厚が8〜45μmであり
(3)部分炭素化して得られた中空糸分離膜の炭素含有率(重量%)が、部分炭素化される芳香族ポリイミド中空糸膜(前駆体膜)の炭素含有率の1.05倍以上であり、かつ、90重量%以下であり
(4)部分炭素化による中空糸分離膜の膜厚の収縮率が0.1〜30%であり
(5)窒素ガスとSF6ガスとの50°Cにおけるガス透過速度比(窒素ガスの透過速度/SF6ガスの透過速度)が500以上であり、且つ窒素ガスの透過速度が1.89×10-5cm3/cm2・sec・cmHg以上である
ことを特徴とする、部分炭素化された非対称性中空糸分離膜。
IPC (3件)：
B01D 71/64 ( 200 6.01)
, B01D 69/08 ( 200 6.01)
, D01F 6/74 ( 200 6.01)
B01D 71/64
, B01D 69/08
, D01F 6/74 A
