特許

J-GLOBAL ID：201103082433255763

酸化膜厚測定方法

発明者： 小邑 篤 ,  加藤 久登 ,  大槻 浩
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (3件)： 伊藤 洋二 ,  三浦 高広 ,  水野 史博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-205533
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093954
特許番号：特許第4192410号
出願日： 2000年07月06日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板(1)上に酸化膜(8)を形成したのち、該酸化膜に光を照射することによって該光の変化に基づいて前記酸化膜の膜厚を測定する酸化膜厚測定方法において、 前記基板上に前記酸化膜を形成したのち、該酸化膜形成後から前記酸化膜厚測定までの間の放置時間を管理し、該放置時間に基づいて酸化膜の膜厚測定を行い、 前記測定された酸化膜厚を前記放置時間に基づいて補正し、実際の酸化膜厚を求めることを特徴とする酸化膜厚測定方法。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ( 200 6.01) ,  G01B 11/06 ( 200 6.01) ,  H01L 29/78 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/66 Q ,  G01B 11/06 Z ,  H01L 29/78 301 T

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ウェーハ表面の付着有機化合物の評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-102243   出願人：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社