特許

J-GLOBAL ID：201103082540059500

プリコート膜の形成方法、成膜装置のアイドリング方法、載置台構造及び成膜装置

発明者： 若林 哲 ,  長谷川 敏夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327059
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144033
特許番号：特許第4547744号
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】載置台構造のプリコート膜の形成方法において、被処理体を載置するための載置台を有する載置台構造を内部に有する成膜装置内に処理ガスを流してTiN膜よりなるプリコート膜を前記載置台の表面に堆積させる堆積工程と、前記載置台を前記堆積工程の温度よりも高い温度に維持しつつNH3 (アンモニア)含有ガスに晒して前記プリコート膜を安定化させる安定化工程とを有することを特徴とするプリコート膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 16/34 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01) ,  H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 16/34 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/285 301 ,  H01L 21/68 N

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 成膜方法及び成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-145855   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 高温に対する耐性を改善するための窒化チタンの処理
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-084597   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• CVD成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-354603   出願人：東京エレクトロン株式会社