特許

J-GLOBAL ID：201103082954945413

薄膜形成方法及び薄膜形成装置

発明者： 西川 和宏 ,  筒井 裕二 ,  中 裕之
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (2件)： 池内 寛幸 ,  佐藤 公博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-097425
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290769
特許番号：特許第4219476号
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 原料溶液を超音波振動槽で微粒子化した後、得られた微粒子をキャリアガスと共に微粒子吹き付けノズルを介して加熱基板上に吹き付けて薄膜を形成する方法において、 前記微粒子吹き付けノズル内の供給経路と排出経路は共に複数のゾーンに分割されており、前記分割されたゾーン毎に流量調節弁が設けられて前記微粒子の流量及び流速を独立して制御すると共に、前記分割されたゾーン毎に温度調節器が配置されて前記微粒子の温度を制御することを特徴とする薄膜形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/22 ( 200 6.01) ,  B01J 19/00 ( 200 6.01) ,  C03C 17/245 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 14/22 Z ,  B01J 19/00 K ,  C03C 17/245 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 化学気相蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-285051   出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド
• 特許第2641351号