特許

J-GLOBAL ID：201103082967125342

処理装置

発明者： 幸田 勇蔵 ,  岡部 正太郎 ,  芳里 直 ,  森山 公一朗 ,  尾崎 裕之 ,  青田 幸人 ,  都築 英寿 ,  金井 正博
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-110284
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306842
特許番号：特許第3544145号
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基体または膜を処理するための処理空間と該処理空間を排気するための排気手段とを有する処理装置であって、前記処理空間と前記排気手段とを連絡する排気経路中にコンダクタンス調整バルブを備え、上記処理空間とコンダクタンス調整バルブとを連絡する排気経路中に、上記処理空間から排気される未反応ガス及び副生成物の少なくとも一方に化学反応を起こさせるための化学反応生起手段を有し、該化学反応生起手段がシリコン原子を含む発熱体から構成されていることを特徴とする処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  B01D 53/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (7件)：

H01L 21/205 ,  B01J 19/08 F ,  C23C 16/44 E ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 101 G ,  B01D 53/34 120 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

• トラップ装置及びこれを用いた未反応処理ガス排気機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-132833   出願人：東京エレクトロン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社
• 特開平4-136175
  
• らせん形状の加熱素子を有する赤外線源
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平11-507016   出願人：カンタルアクチボラゲット
• 特開昭53-050497
  

審査官引用 (4件)

• トラップ装置及びこれを用いた未反応処理ガス排気機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-132833   出願人：東京エレクトロン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社
• 特開平4-136175
  
• らせん形状の加熱素子を有する赤外線源
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平11-507016   出願人：カンタルアクチボラゲット
• 特開昭53-050497