特許
J-GLOBAL ID：201103083572221365
化学兵器剤の除染剤、除染方法および除染装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
米澤 明
, 内田 亘彦
, 田中 貞嗣
, 小山 卓志
, 森川 聡
, 南 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-232609
公開番号（公開出願番号）：特開2011-078902
出願日： 2009年10月06日
公開日（公表日）： 2011年04月21日
要約：
【課題】 化学兵器剤の除洗剤、除染方法、および除染装置を提供する。【解決手段】 pH10以下の弱アルカリ性緩衝液中に光触媒を分散した除染剤、およびそれを用いた化学兵器剤の除染方法、およびpH10以下の弱アルカリ性緩衝液中に光触媒を分散した除染剤を充填した反応室と、前記反応室と光透過性部材からなる区画壁で区画した光照射手段を有し、前記反応室には化学兵器剤によって汚染された空気の導入口と、化学兵器剤を除染した空気の排出口を有する化学兵器剤の除染装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
pH10以下の弱アルカリ性緩衝液中に光触媒を分散したことを特徴とする除染剤。
IPC (3件)：
B01J 35/02
, A62D 3/176
, A62D 3/35
B01J35/02 J
, A62D3/176
, A62D3/35
4C080AA07
, 4C080AA10
, 4C080BB05
, 4C080HH08
, 4C080JJ04
, 4C080KK06
, 4C080LL03
, 4C080MM02
, 4C080NN01
, 4C080QQ03
, 4C080QQ17
, 4G169AA02
, 4G169AA09
, 4G169AA14
, 4G169BA02A
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA47C
, 4G169BA48A
, 4G169BB04A
, 4G169BB06A
, 4G169BC11A
, 4G169BC12A
, 4G169BC22A
, 4G169BC31A
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC43A
, 4G169BC50A
, 4G169BC55A
, 4G169BC60A
, 4G169BC66A
, 4G169BC68A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC75A
, 4G169CA10
, 4G169CA11
, 4G169DA03
, 4G169FB24
, 4G169FC04
, 4G169FC09
, 4G169HA01
, 4G169HB01
, 4G169HB06
, 4G169HC28
, 4G169HC29
, 4G169HE05
, 4G169HE12
, 4G169HE20
