特許

J-GLOBAL ID：201103083981721426

コラート光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト

発明者： イマッド・アカド ,  ミンキ・リー ,  ジョセフ・マッティア
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-275276
公開番号（公開出願番号）：特開2011-219456
出願日： 2010年12月10日
公開日（公表日）： 2011年11月04日
要約：

【課題】新規の光酸発生剤化合物(PAG)およびこれを含むフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】下記式(I)および(II):(式(I)および(II)のそれぞれにおいて、M+は有機オニウム基を表し;R1はステロイド構造であり;mは0〜10の整数であり;nは正の整数である)から選択される光酸発生剤化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(I)および(II):

IPC (6件)：

C07C 309/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C09K 3/00 ,  C07C 381/12

FI (6件)：

C07C309/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C09K3/00 K ,  C07C381/12

Fターム (14件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AN57P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AB48

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-311244   出願人：住友化学株式会社
• 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-219101   出願人：信越化学工業株式会社
• 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-119563   出願人：信越化学工業株式会社