特許
J-GLOBAL ID:201103084496237520

流体噴射装置、流体噴射装置の制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-220278
公開番号(公開出願番号):特開2011-067330
出願日: 2009年09月25日
公開日(公表日): 2011年04月07日
要約:
【課題】起動直後から安定した液体噴射ができる流体噴射装置を提供する。【解決手段】流体噴射装置1は、液体をパルス噴射する脈流発生部21と、脈流発生部21に流体を供給するポンプ10と、流体噴射部20とポンプ10とを連通し柔軟性を有するチューブ4と、脈流発生部21とポンプ10の駆動制御を行う駆動制御部15と、が備えられ、駆動制御部15によりポンプ10を起動させるとともに、ポンプ10から第1流量の流体を指定時間供給し、指定時間経過後、ポンプ10から前記第1流量よりも少ない第2流量の液体を供給する。このことにより、脈流発生部21内の流路抵抗の上昇に起因するチューブ4の膨張がある場合においても、脈流発生部21への液体供給量の減少を抑制し、流体噴射部20の起動直後から液体を安定してパルス状に高速噴射させることができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
流体を噴射する流体噴射部と、 前記流体噴射部に流体を供給する流体供給部と、 前記流体噴射部と前記流体供給部とを連通し柔軟性を有する流体供給チューブと、 前記流体噴射部と前記流体供給部の駆動制御を行う駆動制御部と、が備えられ、 前記駆動制御部により前記流体供給部を起動させるとともに、前記流体供給部から第1流量の流体を指定時間供給し、前記指定時間経過後、前記流体供給部から前記第1流量よりも少ない第2流量の流体を供給することを特徴とする流体噴射装置。
IPC (1件):
A61B 17/32
FI (1件):
A61B17/32
Fターム (1件):
4C160FF10
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 流体噴射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2006-261114   出願人:セイコーエプソン株式会社, 国立大学法人東北大学

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