W/O型エマルジョンの製造方法および該エマルジョン

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-069420
公開番号（公開出願番号）：特開2000-264916
特許番号：特許第4445636号
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】a)不飽和C3〜C5カルボン酸 35〜100質量% b)非イオン性モノマー0〜65質量%および c)少なくとも2官能基性であるモノマーを最低ひとつ a)およびb)の総量あたり0.3〜1モル% から成り、架橋し水中で膨潤した添加ポリマーを分散させて含有するW/O型エマルジョンの製造方法において、レドックス開始剤系を用いた後処理により残留モノマー含量を減少させ、W/O型エマルジョンの後処理を a)ポリマーを製造するために使用する総モノマー量あたり a1)式: R1OOH [式中、R1は水素、C1〜C8アルキルまたはC6〜C12アリール基である]の酸化剤および/または a2)水性媒体中で過酸化水素を放出する化合物を0.001〜5質量%、および b)ポリマーを製造するために使用する総モノマー量あたり b1)式: [式中、それぞれ独立して、 R2は、水素または官能基を有していてもよくかつ/またはオレフィン系不飽和であってよいC1〜C12アルキル基であり、 R3は、水素、OH、または官能基を有していてもよくかつ/またはオレフィン系不飽和であってよいC1〜C12アルキル基であり、 R2とR3は環構造を形成していてもよく、該環構造はヘテロ原子および/または官能基を有してよくかつ/またはオレフィン系不飽和であってよい]のα-ヒドロキシカルボニル化合物および/または b2)水性媒体中でこのようなα-ヒドロキシカルボニル化合物を放出する化合物を0.005〜5質量%、および c)複数の原子価で存在することのできる、触媒量の多価金属イオンを含むレドックス開始剤系を添加して実施することを特徴とする、W/O型エマルジョンの製造方法。

IPC (3件)：

C08F 6/14 ( 200 6.01) , C08F 2/32 ( 200 6.01) , C08F 4/40 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C08F 6/14 , C08F 2/32 , C08F 4/40

引用特許：

出願人引用 (4件)

油中水型ポリマーエマルジョン及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-217713 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
特開昭63-108013
特開昭60-226509

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審査官引用 (4件)

油中水型ポリマーエマルジョン及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-217713 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
特開昭63-108013
特開昭60-226509

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