特許
J-GLOBAL ID：201103084618913425

改善された炭化ケイ素粒子、ならびにその製造方法および使用方法

発明者：
アバヤ・ケー・バクシ

アバヤ・ケー・バクシ について

, 
アイザック・ケー・シェリアン

アイザック・ケー・シェリアン について


出願人/特許権者：
サン-ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド

サン-ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド について


代理人 (2件)： 大賀 眞司 ,  百本 宏之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-528160
公開番号（公開出願番号）：特表2010-540759
出願日： 2008年10月03日
公開日（公表日）： 2010年12月24日
要約：
改善された炭化ケイ素粒子、改善された炭化ケイ素研磨粒子および化学的機械的平面化(CMP)法において用いるための研磨スラリー組成物において、粒子は、ナノサイズ炭化粒子、詳しくはシリカに似た化学的表面特性を有する炭化ケイ素粒子を含むことが可能である。
請求項（抜粋）：
炭化ケイ素を含むナノサイズ粒子。
IPC (4件)：
C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C01B 31/36
FI (5件)：
C09K3/14 550D ,  B24B37/00 H ,  H01L21/304 622C ,  C01B31/36 601S ,  C01B31/36 601Y
Fターム (26件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  4G146MA14 ,  4G146MA15 ,  4G146MB02 ,  4G146MB11 ,  4G146MB18A ,  4G146MB18B ,  4G146MB30 ,  4G146PA11 ,  4G146PA16 ,  5F057AA09 ,  5F057AA27 ,  5F057BA18 ,  5F057BA21 ,  5F057BB26 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA06 ,  5F057EA16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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