薄鋳片連続鋳造機用ドラムのディンプル加工方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：半田昌男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-288425
公開番号（公開出願番号）：特開2002-103064
特許番号：特許第3422979号
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】互いに反対方向に回転する一対の冷却ドラムの間隙の上部に形成された湯溜まり部に、溶湯を連続的に供給して薄鋳片を連続鋳造するための薄鋳片連続鋳造機用ドラムのディンプル加工方法において、該ドラム表層にQスイッチCO2レーザパルスを照射し、直径が50〜200μm、深さが50μm以上の微小穴を穴相互間が接しない条件下でピッチが100〜500μmとなるよう形成する際に、QスイッチCO2レーザパルスのパルスエネルギが40〜150mJ、時間全幅が30〜50μsecであり、レーザビーム集光直径を50〜150μmとすることを特徴とする薄鋳片連続鋳造機用ドラムのディンプル加工方法。

IPC (2件)：