研磨剤組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：渡邉一平 , 木川幸治 , 菅野重慶 , 佐藤博幸 , 小池成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-155550
公開番号（公開出願番号）：特開2010-284784
出願日： 2009年06月30日
公開日（公表日）： 2010年12月24日
要約：

【課題】高い研磨レートで、表面粗度に優れた基板を作製することのできる研磨剤組成物を提供する。【解決手段】本発明の研磨剤組成物は、パラタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウムなどのタングステン酸塩、タングステン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンタングストモリブデン酸などのタングステン系ヘテロポリ酸、タングステン系ヘテロポリリン酸塩、モリブデン酸、モリブデン酸塩、リンモリブデン酸、リンタングストモリブデン酸などのモリブデン系ヘテロポリ酸、モリブデン系ヘテロポリ酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種と、過酸化水素などの酸素供与剤、砥粒、pH調節剤及び水を含有してなる。本発明の研磨剤組成物を用いて、例えば、炭化ケイ素基板を効率的に研磨することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属オキソ酸とその塩である、イソポリ酸、ヘテロポリ酸、イソポリ酸塩及びヘテロポリ酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種と、砥粒、酸素供与剤、pH調節剤、及び水を含有してなり、前記イソポリ酸は、タングステン酸及び/又はモリブデン酸であり、前記イソポリ酸塩は、タングステン酸塩及び/又はモリブデン酸塩である研磨剤組成物。

IPC (3件)：

B24B 37/00 , C09K 3/14 , H01L 21/304

FI (5件)：

B24B37/00 H , C09K3/14 550Z , C09K3/14 550D , H01L21/304 622D , H01L21/304 622W

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058CA05 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (4件)

化学機械研磨用水系分散体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-020275 出願人：ジェイエスアール株式会社
研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-205384 出願人：花王株式会社
化学機械研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-157901 出願人：三井化学株式会社

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審査官引用 (4件)

化学機械研磨用水系分散体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-020275 出願人：ジェイエスアール株式会社
研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-205384 出願人：花王株式会社
化学機械研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-157901 出願人：三井化学株式会社

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