特許

J-GLOBAL ID：201103085796863306

トレイレス斜め基板搬送装置

発明者： 笹川 英四郎 ,  上野 茂一 ,  藤山 泰三 ,  小川 和彦
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (7件)： 工藤 実 ,  中尾 圭策 ,  鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-301271
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118907
特許番号：特許第3842935号
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 真空処理室と、 前記真空処理室内に設けられた両面型の製膜ユニットと、 前記製膜ユニットの両側にそれぞれ平板状のヒータカバーを介して配置されたヒータユニットと、 前記ヒータカバーを前記ヒータユニットから前記製膜ユニットまでの間で移動させるヒータカバー移動手段と、 前記真空処理室に基板を搬送する搬送台車と、 を具備し、 前記搬送台車は、前記搬送台車上で基板を製膜面が上を向くように斜めに立て掛け支持し、前記ヒータカバーに基板を製膜面が斜め上を向いた状態で受け渡す基板保持機構を備え、 前記ヒータカバーは、前記搬送台車から受け取った基板を製膜面が上を向くように鉛直軸に対して傾けて保持し、 前記ヒータカバーは、基板が滑り落ちるのを防ぐように設けられた支持突起を備える トレイレス斜め基板搬送装置。

IPC (5件)：

H01L 21/677 ( 200 6.01) ,  B65G 49/06 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  C23C 16/458 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/06 Z ,  C23C 16/44 F ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/205

引用特許：

出願人引用 (3件)

• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-076866   出願人：株式会社島津製作所
• 成膜装置の基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-279497   出願人：三菱重工業株式会社
• 特開昭64-046917
  

審査官引用 (4件)

• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-076866   出願人：株式会社島津製作所
• 成膜装置の基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-279497   出願人：三菱重工業株式会社
• 特開昭64-046917
  
• 特開昭64-046917