特許
J-GLOBAL ID:201103086804912334
グラフェンまたは薄膜グラファイトの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-150005
公開番号(公開出願番号):特開2011-032156
出願日: 2010年06月30日
公開日(公表日): 2011年02月17日
要約:
【課題】大面積で、電気伝導性・透明性等の品質に優れたグラフェンまたは薄膜グラファイトを簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】グラファイト結晶、またはグラファイト結晶から作製されたグラファイト層間化合物を、水および/または有機溶媒中で攪拌し、グラファイト結晶またはグラファイト層間化合物から、グラファイト層を剥離する工程を含む事を特徴とする。前記グラファイト結晶のX線回折によって測定された002回折線より算出された平均層面間隔が0.3354〜0.35nmの範囲にあることが好ましい。【選択図】なし
請求項(抜粋):
X線回折によって測定された002回折線より算出された平均層面間隔が0.3354〜0.35nmの範囲にあるグラファイト結晶を、水および/または有機溶媒中で攪拌し、前記グラファイト結晶の表面からグラファイト層を剥離する工程を含む事を特徴とするグラフェンの製造方法。
IPC (3件):
C01B 31/04
, C08L 101/00
, C08K 3/04
FI (3件):
C01B31/04 101Z
, C08L101/00
, C08K3/04
Fターム (40件):
4G146AA02
, 4G146AA07
, 4G146AA15
, 4G146AB04
, 4G146AB07
, 4G146AC16A
, 4G146AC16B
, 4G146AC20A
, 4G146AC20B
, 4G146AD22
, 4G146AD28
, 4G146BA02
, 4G146BA15
, 4G146BA45
, 4G146BC04
, 4G146BC36B
, 4G146CA11
, 4G146CB09
, 4G146CB10
, 4G146CB17
, 4G146CB19
, 4G146CB35
, 4J002BB061
, 4J002BC031
, 4J002BD041
, 4J002BD101
, 4J002BE021
, 4J002BE061
, 4J002BF021
, 4J002BG041
, 4J002BQ001
, 4J002CD001
, 4J002CE001
, 4J002CF211
, 4J002CG001
, 4J002CL011
, 4J002CL031
, 4J002CM011
, 4J002DA026
, 4J002FD116
引用特許:
引用文献:
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