特許

J-GLOBAL ID：201103087721499610

欠陥検出方法及び欠陥検出装置並びにこれを備えた欠陥観察装置

発明者： 大谷 祐子 ,  立▲崎▼ 武弘 ,  渡辺 正浩 ,  松本 俊一
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-262445
公開番号（公開出願番号）：特開2011-106974
出願日： 2009年11月18日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：

【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布フィルタを挿入する構成とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検査物の表面に対して斜方よりレーザを照射する照明光学系と、 前記照射されたレーザによる前記被検査物からの散乱光を対物レンズで集光し、固体撮像素子に結像する検出光学系と、 を有する欠陥検出装置であって、 前記検出光学系は、前記散乱光のうち前記被検査物表面の凹凸による散乱光と前記被検査物表面の異物又は欠陥による散乱光の偏光方向を制御し、透過する偏光方向を選択する分布フィルタを有することを特徴とする欠陥検出装置。

IPC (2件)：

G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01N21/956 A ,  H01L21/66 J

Fターム (30件)：

2G051AA51 ,  2G051AA71 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA04 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB07 ,  2G051BB20 ,  2G051BC04 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051CC15 ,  2G051CC20 ,  2G051CD02 ,  2G051DA07 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DB05 ,  4M106DB08 ,  4M106DB14 ,  4M106DB15 ,  4M106DB18

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公平6-010656
  
• 異物検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-023998   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭62-163951