特許

J-GLOBAL ID：201103089740236240

検査装置および検査方法

発明者： 玉虫 秀一
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (2件)： 大阿久 敦子 ,  山下 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-066980
公開番号（公開出願番号）：特開2011-196952
出願日： 2010年03月23日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：

【課題】光学画像のパターンと基準画像のパターンとの位置合わせを高い精度で行いつつ、且つ、高速で欠陥検出のできる検査装置および検査方法を提供する。【解決手段】画像センサから試料の光学画像を取得する工程と、光学画像および判定の基準となる基準画像のいずれか一方について、そのX方向とY方向の移動量をそれぞれα(0≦α<1)とβ(0≦β<1)として、αおよびβと光学画像と基準画像の差分の2乗和との関係を表す方程式を求める工程と、この方程式から得られる差分の2乗和が最小となる(α,β)の組から、位置合わせに最適な移動量を求める工程とを有する。この方程式についてαおよびβの偏微分を解くことにより、位置合わせに最適な移動量を求めてもよい。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

パターンが形成された試料の像を画像センサに結像して前記試料の光学画像を取得する部分と、 前記光学画像を基準画像と位置合わせする部分と、 前記光学画像と前記基準画像を比較し、差異が閾値を超えた場合に欠陥と判定する部分とを有し、 前記位置合わせする部分は、前記光学画像および前記基準画像のいずれか一方について、そのX方向とY方向の移動量をそれぞれα(0≦α<1)とβ(0≦β<1)として、αおよびβと前記光学画像と前記基準画像の差分の2乗和との関係を表す方程式を求める部分と、 前記方程式から得られる前記差分の2乗和が最小となる(α,β)の組から、前記位置合わせに最適な移動量を求める部分とを有することを特徴とする検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G03F 1/08

FI (4件)：

G01N21/956 A ,  G01B11/24 F ,  G01B11/24 K ,  G03F1/08 S

Fターム (42件)：

2F065AA20 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065FF02 ,  2F065FF42 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL05 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ39 ,  2F065RR06 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BB03 ,  2G051CA03 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051DA09 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB09 ,  2G051EC03 ,  2H095BD04 ,  2H095BD28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 被検査パターンの欠陥検査方法およびその方法を用いた半導体製造プロセス評価方法並びに複数画像の位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-012880   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平4-194702
  
• 画像欠陥検査方法、画像欠陥検査装置及び外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-188153   出願人：株式会社東京精密