特許

J-GLOBAL ID：201103090103981037

エキシマレーザ加工方法

発明者： 阪本 努 ,  佐藤 重匡
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-142757
公開番号（公開出願番号）：特開2000-326081
特許番号：特許第3826620号
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 エキシマレーザを用いて、被加工物にスルーホールを形成するためのレーザ加工方法において、レーザ照射側よりレーザ未照射側の開口径が、より大きく形成されるとともに、スルーホールの加工径よりもレーザ未照射側の開口径が大きく形成される構造であって、材質が磁性体材料であるマスクを、マグネットの磁力を用いて、被加工物に密着させ、前記レーザ照射側より前記エキシマレーザを照射させることを特徴とするレーザ加工方法。

IPC (4件)：

B23K 26/38 ( 200 6.01) ,  B23K 26/18 ( 200 6.01) ,  H05K 3/00 ( 200 6.01) ,  B23K 101/42 ( 200 6.01)

FI (4件)：

B23K 26/38 330 ,  B23K 26/18 ,  H05K 3/00 N ,  B23K 101:42

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭60-121091
  
• レーザ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-236474   出願人：富士通株式会社
• プリントヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-326364   出願人：株式会社東芝, 株式会社テック