特許

J-GLOBAL ID：201103090305687068

テンプレートの表面処理方法及び装置並びにパターン形成方法

発明者： 河 村 嘉 久 ,  小 林 克 稔 ,  伊 藤 信 一 ,  林 秀 和 ,  冨 田 寛
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (6件)： 勝沼 宏仁 ,  佐藤 泰和 ,  川崎 康 ,  関根 毅 ,  赤岡 明 ,  重野 隆之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-280514
公開番号（公開出願番号）：特開2011-224965
出願日： 2010年12月16日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
要約：

【課題】均一性の高い離型層をテンプレート表面に形成する。【解決手段】本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にOH基を分布させる工程と、前記OH基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。これらの処理は、アミンが所定濃度以下に管理された環境で行われる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

アミンが所定濃度以下に管理された環境で、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を処理する表面処理方法であって、 前記テンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にOH基を分布させる工程と、 前記OH基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、 を備える表面処理方法。

IPC (4件)：

B29C 33/72 ,  H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B81C 3/00

FI (4件)：

B29C33/72 ,  H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  B81C3/00

Fターム (22件)：

3C081AA17 ,  3C081CA37 ,  3C081CA40 ,  3C081CA43 ,  4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AM13 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CS04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209AJ11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ナノインプリント用スタンパ、ナノインプリント用スタンパの製造方法、およびナノインプリント用スタンパの表面処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-012128   出願人：株式会社日立製作所, 国立大学法人茨城大学
• テンプレートの洗浄方法及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-213354   出願人：株式会社東芝