特許

J-GLOBAL ID：201103090393124612

シラン(SiH4)を再循環させる方法

発明者： ブリエン、ピエール ,  アルバン、ブルーノ ,  シェーブル、アンリ ,  ジャーン、ドニ
出願人/特許権者： レール・リキード-ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
代理人 (9件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  砂川 克
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-549175
公開番号（公開出願番号）：特表2011-513182
出願日： 2009年02月18日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：

本発明は以下の連続工程を有するシランの再循環方法に関する:a)純シラン/純水素(SiH4/H2)の混合物を反応チャンバに注入してシリコン含有薄膜を作る工程、b)工程a)で未使用の過剰なシラン/水素の混合物(SiH4/H2)を供給ガスを使用するポンプで取り出す工程、c)ポンプにより大気圧に近い圧力で少なくともシラン(SiH4)、水素(H2)およびゼロとは異なる量の供給ガスを含む混合物を配送する工程およびd)工程c)から生じる混合物から生じる水素/供給ガス混合物からシラン(SiH4)を分離する工程を有し、こうして得られたシランは100ppm未満の供給ガス、好ましくは10ppm未満の供給ガス、好ましくは1ppm未満の供給ガスを含み、工程b)からのシラン(SiH4)の少なくとも50%、好ましくは70%、より好ましくは80%を工程d)の後に新たな工程a)のために再使用することを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

シランを再循環させる方法であって、以下の連続工程: a)純シラン/純水素(SiH4/H2)の混合物を反応チャンバ(7)に注入してシリコン含有薄膜を製作する工程と、 b)フィードガスを用いるポンプ(8)によって、工程a)で使用されなかった過剰なシランと水素とを含む混合物(SiH4/H2)を取り出す工程と、 c)前記ポンプ(8)によって、大気圧に近い圧力で、少なくともシラン(SiH4)と、水素(H2)と、ゼロではない量の前記フィードガスとを含む混合物を配送する工程と、 d)工程c)から生じる混合物から生じる水素/フィードガス混合物からシラン(SiH4)を分離する工程であって、得られる前記シランは100ppm未満のフィードガス、好ましくは10ppm未満のフィードガス、好ましくは1ppm未満のフィードガスを含んで得られる工程と を含み、 工程b)から生じるシラン(SiH4)の少なくとも50%、好ましくは70%、より好ましくは80%を工程d)の後に新たな工程a)のために再使用することを特徴とする方法。

IPC (2件)：

C01B 33/04 ,  C01B 33/02

FI (2件)：

C01B33/04 ,  C01B33/02 D

Fターム (6件)：

4G072AA01 ,  4G072BB09 ,  4G072HH04 ,  4G072JJ01 ,  4G072RR11 ,  4G072RR16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• アモルファスシリコンベース膜の堆積方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-182362   出願人：アプライドコマツテクノロジー株式会社
• 特開昭58-223612
  
• 特開昭49-065993
  
• 特開昭61-261207