特許
J-GLOBAL ID:201103090531264013

フォトダイオードアレイ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-145713
公開番号(公開出願番号):特開2011-003739
出願日: 2009年06月18日
公開日(公表日): 2011年01月06日
要約:
【課題】印加電圧を増加させることなく、各フォトダイオードからの出力を増加することが可能なフォトダイオードアレイの提供。【解決手段】アレイの構造は、半導体基板1Nとキャパシタ用電極E2との間に絶縁層Lを介してキャパシタC1が形成されている。また、N型の半導体基板1NとP型の第1半導体領域1PAとの間に、PN接合が構成されることで、フォトダイオードD1が形成され、半導体基板1Nは第1電極E1に電気的に接続され、第1半導体領域1PAは、第2半導体領域1PBを介して、表面電極E3に接続されている。これらのフォトダイオードD1とキャパシタC1とは並列に接続されている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
複数のフォトダイオードを第1導電型の半導体基板に形成してなるフォトダイオードアレイにおいて、 個々のフォトダイオードは、 前記半導体基板の一方の表面側に形成された第2導電型の第1半導体領域と、 前記第1半導体領域内に形成されこの第1半導体領域よりも高い不純物濃度を有する第2導電型の第2半導体領域と、 前記半導体基板に電気的に接続された第1電極と、 前記第2半導体領域上に形成された表面電極と、 を備え、 個々のフォトダイオード毎に、 前記第1半導体領域の外側の前記半導体基板上に、絶縁層を介して形成された第1キャパシタ用電極と、 前記表面電極に、その一方端が連続し、前記第1半導体領域上の絶縁層の表面に沿って延びた抵抗層と、 を備え、 前記第1キャパシタ用電極と前記表面電極とは電気的に接続されており、 前記個々のフォトダイオードの前記抵抗層の他方端は、共通の信号線に電気的に接続されている、 ことを特徴とするフォトダイオードアレイ。
IPC (1件):
H01L 31/10
FI (2件):
H01L31/10 H ,  H01L31/10 A
Fターム (13件):
5F049MA07 ,  5F049MB03 ,  5F049NA01 ,  5F049NB03 ,  5F049NB05 ,  5F049QA03 ,  5F049RA03 ,  5F049SE02 ,  5F049SE12 ,  5F049SE20 ,  5F049UA01 ,  5F049UA11 ,  5F049UA20
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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