特許

J-GLOBAL ID：201103090992821194

水素処理設備及び水素処理方法

発明者： 唐澤 英年 ,  山成 省三
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-049562
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250788
特許番号：特許第3726689号
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 水素ガスを含む混合ガスから水素ガスを透過する材料で水素ガスを分離処理する設備と、水素ガスを吸蔵する物質とを備えた水素処理設備において、前記水素ガスを透過する材料は複数の管に形成され、その管は外周囲に前記混合ガスが接触し内部が前記混合ガスから隔離されるように装備されており、その管の外周囲に、水素ガスを吸蔵する物質を粒子状にしたものを、前記水素ガスを吸蔵する物質の発熱による熱を前記管に伝達出来るように前記管の外周囲に接触させて配備したことを特徴とする水素処理設備。

IPC (2件)：

G21C 9/00 ,  G21D 3/08

FI (2件)：

G21C 9/00 GDB K ,  G21D 3/08 F

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-044020
  
• 原子炉設備及びその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-140415   出願人：株式会社日立製作所