特許
J-GLOBAL ID：201103091997129422
人工欠陥を有した遮熱層の形成方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
田中 重光
, 石川 新
, 鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 風間 鉄也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-177410
公開番号（公開出願番号）：特開2002-361166
特許番号：特許第3950303号
出願日： 2001年06月12日
公開日（公表日）： 2002年12月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 母材上にアンダーコート層を形成する工程と、このアンダーコート層上にトップコート層を形成する工程と、人工欠陥形成予定部を除く前記トップコート層上にマスク材を形成する工程と、マスク材から露出する前記トップコート層上に人工欠陥形成部材を形成する工程と、前記マスク材を除去した後、全面に再度トップコート層を形成する工程と、前記人工欠陥形成部材を消失させてトップコート層に人工欠陥を形成する工程とを具備し、前記人工欠陥形成部材としてAlを蒸着又は溶射により堆積し、かつトップコート層の形成後に水酸化ナトリウム中に浸漬し、堆積したAlを溶解することにより人工欠陥を形成することを特徴とする人工欠陥を有した遮熱層の形成方法。
IPC (2件)：
B05D 1/32 ( 200 6.01)
, G01N 1/28 ( 200 6.01)
B05D 1/32 A
, G01N 1/28 N
