特許

J-GLOBAL ID：201103092672916173

プラズマ処理装置、プラズマ処理監視用窓部材及びプラズマ処理装置用の電極板

発明者： 大川 義仁 ,  林 大輔
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155539
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349070
特許番号：特許第4055880号
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 処理容器内に配置されてその内部にプロセスガスを供給する複数のガス分散孔を有する第1の電極と、第1の電極と所定間隔を空けて対向し且つ第1の電極との間でプラズマを発生させて被処理体にプラズマ処理を施す第2の電極と、これら両電極間のプラズマ処理を監視するために上記第1の電極に装着された計測光の光路を複数有する窓部材とを備え、上記第1の電極は、下面に凹陥部を有する電極本体と、この電極本体の下面に接合されて中空部を形成し且つ所定間隔を空けて規則的に形成された上記複数のガス分散孔を有する電極板と、を備えたプラズマ処理装置であって、 上記窓部材は、下端部が上記電極本体に形成された孔を貫通して上記電極板に達する本体と、上記本体の上端面に形成された凹陥部に嵌め込まれて密着する透明部材と、を有しており、 上記電極板には、一つの上記ガス分散孔を囲み且つこのガス分散孔と隣り合う他のガス分散孔との間に介在する開口部を複数設け、また、 上記窓部材の上記本体の下端部には上記電極本体の孔に嵌入する縮径部を設けると共にこの縮径部から上記複数の開口部それぞれに達する複数の突起を設け、更に、 上記窓部材の上記本体には上記凹陥部から上記複数の突起それぞれを上下に貫通して上記複数の開口部に至る複数の光路を設けた ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/302 103 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-023617
  
• 特開平3-148118
  
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-324653   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭59-186325