特許
J-GLOBAL ID：201103094105741144
プローブ痕深さ測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-161878
公開番号（公開出願番号）：特開2001-345358
特許番号：特許第3566625号
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】半導体装置の導通検査にて形成されたプローブの接触痕の深さを測定するプローブ痕深さ測定装置であって、前記半導体装置における前記接触痕を含む領域を撮像する撮像手段と、前記撮像手段によって取得された画像のうちの接触痕領域についての画像情報に基づいて前記接触痕の深さを検出する接触痕深さ検出部と、を備え、前記接触痕深さ検出部は、前記接触痕領域についての濃度情報に基づいて前記接触痕の深さを検出することを特徴とするプローブ痕深さ測定装置。
IPC (9件)：
H01L 21/66
, G01B 11/02
, G01B 11/22
, G01B 11/24
, G01R 31/26
, G01R 31/28
, G06T 1/00
, G06T 7/60
, H04N 7/18
H01L 21/66 B
, H01L 21/66 J
, G01B 11/02 H
, G01B 11/22 H
, G01R 31/26 J
, G06T 1/00 305 Z
, G06T 1/00 400 D
, G06T 1/00 420 C
, G06T 7/60 150 J
, G06T 7/60 200 C
, H04N 7/18 C
, G01B 11/24 F
, G01R 31/28 K
