特許

J-GLOBAL ID：201103095263063958

光学素子の製造方法

発明者： 菅沼 洋
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (3件)： 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-325936
公開番号（公開出願番号）：特開2001-141911
特許番号：特許第4320876号
出願日： 1999年11月16日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】理想的な性能を有するマスタを用いて補正対象の光学素子を補正することによって、理想的な性能を有する光学素子を複製する光学素子の製造方法であって、 上記マスタを透過又は反射した光を第1の物体光とし、この第1の物体光と所定の参照光とをホログラム記録媒体中で干渉させて、上記ホログラム記録媒体に第1のホログラムを記録する第1の工程と、 補正対象の光学素子を透過又は反射した光を第2の物体光とし、この第2の物体光と上記第1の工程において用いた参照光と同一の参照光とを上記ホログラム記録媒体中で干渉させて、上記第1のホログラムが記録されたホログラム記録媒体に第2のホログラムを多重記録する第2の工程と、 上記第1の工程及び第2の工程において用いた参照光の位相共役光を上記ホログラム記録媒体に入射して、上記ホログラム記録媒体に多重記録された第1のホログラムと第2のホログラムとを同時に位相共役再生する第3の工程と、 上記位相共役再生された第1のホログラムの再生光と第2のホログラムの再生光とを、上記補正対象の光学素子上或いはその近傍に設けられたホログラム記録層中で干渉させて、上記ホログラム記録層に第3のホログラムを記録する第4の工程とを経ること を特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ( 200 6.01) ,  G03H 1/04 ( 200 6.01) ,  G02B 5/32 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G02B 3/00 Z ,  G03H 1/04 ,  G02B 5/32

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-013378
  
• 特開昭62-234182
  
• 二重焦点レンズおよびこれを用いた光ディスク記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-318364   出願人：ソニー株式会社
• 対物レンズ及び光学ピックアップ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-125160   出願人：ソニー株式会社