特許
J-GLOBAL ID：201103095578996324
ポリウレタン焼付系及びその製造方法と用途
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
田中 光雄
, 山田 卓二
, 森住 憲一
, 柴田 康夫
, 梶田 真理奈
, 上田 郁子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-075436
公開番号（公開出願番号）：特開2011-174075
出願日： 2011年03月30日
公開日（公表日）： 2011年09月08日
要約：
【課題】 低い焼付け温度で、また様々なブロック剤と樹脂と親水化剤とを用いて効果的である、総合的な用途に適した触媒を含むポリウレタンベースの一成分焼付系を提供する。【解決手段】 (a)ブロックトポリイソシアネートと、(b)ポリイソシアネート反応性基を有するポリマーと、(c)酸化状態が少なくとも+4であるモリブデン及び/又はタングステンの有機化合物及び/又は無機化合物を1つ以上と、(d)水及び/又は有機溶剤又は混合溶剤とを含む、ポリウレタンベースの一成分焼付系。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)ブロックトポリイソシアネートと、
(b)ポリイソシアネート反応性基を有するポリマーと、
(c)酸化状態が少なくとも+4であるモリブデン及び/又はタングステンの有機化合物及び/又は無機化合物を1つ以上と、
(d)水及び/又は有機溶剤又は混合溶剤と、
(e)所望により更に添加物及び助剤と
を含み、
(a)+(b)の量が20〜89.9重量部、(c)が0.01〜5重量部、(d)が10〜70重量部、及び(e)が0〜10重量部であって、成分(a)〜(e)の合計が100重量部である、ポリウレタンベースの一成分焼付系。
IPC (8件)：
C08G 18/22
, C08G 18/80
, C09J 175/04
, C09J 11/04
, C09J 11/06
, C09D 7/12
, C09D 175/04
, C09D 11/00
C08G18/22
, C08G18/80
, C09J175/04
, C09J11/04
, C09J11/06
, C09D7/12
, C09D175/04
, C09D11/00
4J034BA01
, 4J034CA04
, 4J034CA05
, 4J034CB02
, 4J034CB07
, 4J034CC01
, 4J034CC23
, 4J034DA01
, 4J034DB05
, 4J034DB07
, 4J034DC50
, 4J034DF16
, 4J034DF17
, 4J034DF24
, 4J034DG03
, 4J034DG04
, 4J034HA07
, 4J034HC03
, 4J034HC12
, 4J034HC13
, 4J034HC17
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034HD05
, 4J034HD07
, 4J034HD12
, 4J034JA03
, 4J034JA12
, 4J034JA13
, 4J034JA30
, 4J034KA01
, 4J034KB02
, 4J034KC26
, 4J034KD01
, 4J034KD12
, 4J034KD27
, 4J034KE01
, 4J034KE02
, 4J034LA22
, 4J034QB12
, 4J034QC05
, 4J034QC08
, 4J034QD03
, 4J034RA07
, 4J034RA08
, 4J034SA02
, 4J034SB01
, 4J034SB04
, 4J034SB05
, 4J038DG031
, 4J038DG301
, 4J038HA066
, 4J038JC38
, 4J038KA04
, 4J038MA09
, 4J038MA10
, 4J038PA19
, 4J039AE04
, 4J039AE06
, 4J039AE07
, 4J039BA13
, 4J039BC03
, 4J039BC23
, 4J039BC32
, 4J039BE12
, 4J039BE25
, 4J039EA45
, 4J040EF031
, 4J040EF331
, 4J040HA061
, 4J040HD41
, 4J040JA02
, 4J040JA03
, 4J040JB02
, 4J040KA14
, 4J040PA30
