基板現像装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-291206
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100597
特許番号：特許第3910032号
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に対して現象処理を施す基板現像装置において、基板を吸着保持するスピンチャックと、現像された被膜のパターン寸法を反射光に基づき測定するとともに、パターン寸法の適否を判定するための測定手段と、前記測定手段がパターン寸法を不適であると判定した場合には警報を発する警報手段と、を備え、前記測定手段は、前記スピンチャック上の基板に対して光を照射する多波長光源と、前記スピンチャック上の基板からの反射光を分光する分光器と、前記分光器からの出力を処理して、現像された被膜のパターン寸法を求めるとともにパターン寸法の適否を判定する画像処理手段と、を備え、基板に対して前記スピンチャック上で現像・リンスが終了した後に、判定することを特徴とする基板現像装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G01B 11/24 ( 200 6.01) , G03F 7/26 ( 200 6.01) , G03F 7/30 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/30 569 C , H01L 21/30 502 V , G01B 11/24 F , G03F 7/26 501 , G03F 7/30 501

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭63-305512
半導体ウエハの自動検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-133152 出願人：株式会社ニコン
マクロ検査用照明装置、マクロ検査装置及び該方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-308766 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション

全件表示

審査官引用 (5件)

特開昭63-305512
特開昭63-305512
半導体ウエハの自動検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-133152 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る