特許
J-GLOBAL ID：201103097366048623
誘電体窓を用いたマイクロ波プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
宮崎 昭夫
, 緒方 雅昭
, 金田 暢之
, 石橋 政幸
, 伊藤 克博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-096628
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294548
特許番号：特許第4298049号
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マイクロ波が透過可能な誘電体窓を有するプラズマ処理室と、被処理基体支持手段と、該プラズマ処理室内への処理用ガス導入手段と、該プラズマ処理室内を排気する排気手段と、複数のスロットを有し、該複数のスロットと前記誘電体窓とを介して前記プラズマ処理室へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段とで構成されるプラズマ処理装置であって、
該誘電体窓の該プラズマ処理室側の面及び前記マイクロ波導入手段側の面は円錐状であり、
前記マイクロ波導入手段は複数のスロットを持つ環状導波管を備え、前記環状導波管は前記誘電体窓の前記マイクロ波導入手段側の面に沿った円錐状であることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01)
, C23C 16/44 ( 200 6.01)
, C23C 16/511 ( 200 6.01)
, C23F 4/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/31 C
, C23C 16/44 J
, C23C 16/511
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/302 101 D
, H05H 1/46 B
, H05H 1/46 C
