特許
J-GLOBAL ID:201103097367249142

触媒およびこの触媒を用いた不飽和ニトリルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鳴井 義夫 ,  伊藤 穣 ,  武井 英夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-379900
公開番号(公開出願番号):特開2002-177777
特許番号:特許第4535608号
出願日: 2000年12月14日
公開日(公表日): 2002年06月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 プロパンまたはイソブタンの気相接触アンモ酸化反応によって不飽和ニトリルを製造する際に用いる触媒において、下記式(I)で示される成分組成を有することを特徴とする触媒。 Mo1 Va Sbb Nbc AldOn・・・(I) (式中、a、b、c、dはMo1原子あたりの原子比を表し、0.1≦a≦1、0.01≦b≦0.6、0.01≦c≦0.3、0.01≦d≦0.5、そしてnは構成金属の酸化状態によって決まる原子比である。)
IPC (4件):
B01J 23/28 ( 200 6.01) ,  C07C 253/26 ( 200 6.01) ,  C07C 255/08 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
B01J 23/28 Z ,  C07C 253/26 ,  C07C 255/08 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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