特許
J-GLOBAL ID:201103097878263704

レンズアレイ基板の検査方法、レンズアレイ基板の検査装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-051366
公開番号(公開出願番号):特開2001-242037
特許番号:特許第3794233号
出願日: 2000年02月28日
公開日(公表日): 2001年09月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 互い直交する3方向をX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向としたときに、レンズアレイ基板を順次、X軸方向に搬送して当該レンズアレイ基板を所定の検査位置に配置し、該検査位置において、前記レンズアレイ基板に対してZ軸方向から光を照射するとともに、前記レンズアレイ基板を透過した光を被投射面に拡大投射し、該被投射面に対する照射結果に基づいて前記レンズアレイ基板を検査するレンズアレイ基板の検査方法であって、 前記レンズアレイ基板は、複数枚が一枚の大型基板に形成された状態で前記検査位置まで順次、搬送され、該検査位置では、前記大型基板をX軸方向又はY軸方向にずらしていくことにより、当該大型基板に形成されている複数の前記レンズアレイ基板の各々に光を順次、照射して前記レンズアレイ基板の各々を透過した光を前記被投射面に拡大投射することを特徴とするレンズアレイ基板の検査方法。
IPC (5件):
G01M 11/00 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01) ,  G03B 21/00 ( 200 6.01) ,  H04N 5/74 ( 200 6.01) ,  G02B 3/00 ( 200 6.01)
FI (6件):
G01M 11/00 L ,  G01M 11/00 T ,  G02F 1/13 101 ,  G03B 21/00 E ,  H04N 5/74 K ,  G02B 3/00 A
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る