特許
J-GLOBAL ID:201103098037536672
中空シリンダの加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 研二
, 石田 純
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-185880
公開番号(公開出願番号):特開2001-009602
特許番号:特許第4624524号
出願日: 2000年06月21日
公開日(公表日): 2001年01月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 曲面を規定する乾燥外側表面と、曲面を規定する乾燥内側表面と、対向する第1及び第2の端部と、前記第1の端部から前記第2の端部まで延びる仮想軸と、を備える中空円筒状基板を準備するステップと、
前記基板を支持するステップと、
前記基板の少なくとも一つの端部の少なくとも一部を、液体が存在しない状態で、少なくとも一つの乾燥多結晶ダイヤモンド切削工具で加工して、前記基板から材料を除去するステップと、
加工中に同時に、前記少なくとも一つの乾燥多結晶ダイヤモンド切削工具によって前記基板の少なくとも一つの端部から加工された材料が、前記円筒状基板の前記乾燥内側表面には存在しないように、少なくとも加工されている前記基板の端部を囲むハウジングの排出ダクトから前記加工された材料のみを空気によって排出するステップと、
を含む、中空シリンダの加工方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
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