特許
J-GLOBAL ID:201103098272398856

エッチング終点検出方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-167446
公開番号(公開出願番号):特開2000-357679
特許番号:特許第4193288号
出願日: 1999年06月14日
公開日(公表日): 2000年12月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 Al系金属層及びTiN系導電層からなる積層を塩素系ガスを用いてプラズマエッチングする際に活性種の発光をモニターし、その発光強度の変化に基づいてAl系金属層及びTiN系導電層のエッチング終点を検出するエッチング終点検出方法であって、 前記積層を塩素系ガスを用いてプラズマエッチングする際に生成される反応生成物を透過する754.7〜837.6nmの波長の光をモニターし、 前記積層をプラズマエッチングする際に前記活性種の発光として単一波長の光をモニターすることを特徴とするエッチング終点検出方法。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/302 103 ,  C23F 4/00 A
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平2-244623
  • ドライエッチング方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-103752   出願人:日本電気株式会社
  • 特開平3-161930
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