特許
J-GLOBAL ID：201103098733062855
回折格子パターンの作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-138475
公開番号（公開出願番号）：特開2000-329919
特許番号：特許第4325017号
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 コンピュータ・グラフィックスや、スキャナ,デジタルカメラなどにより得られる、回折格子パターンを構成する基となる画像データの各画素から、最大の明るさを持つ画素及びその他の画素の輝度データを抽出するステップと、
前記各画素の輝度データを、回折格子の描画される領域を拡張する前の回折格子パターンに変換するステップと、
前記回折格子の描画される領域を拡張する前の回折格子パターンから、回折格子が形成される各セルにおける、回折格子の存在しない領域の面積を計算するステップと、
回折格子の存在しない領域の面積が最も小さいセルについては、その面積を0とし、回折格子の描画される領域を拡張して、その他のセルについても、同様の比率で回折格子の描画される領域を増大させるステップと、
回折格子の描画される領域(セル)の外形を新たに決定するステップと、
を含み、以上のステップに基づいて、回折格子をセル毎に描画しながら、回折格子からなるセルを基板表面に複数配置することを特徴とする回折格子パターンの作製方法。
なお、回折格子の描画される領域を拡張する前の回折格子パターンにおいて、セルの最大面積すべてに回折格子を描画している場合は、除かれるものである。
IPC (2件)：
G02B 5/18 ( 200 6.01)
, G02B 5/32 ( 200 6.01)
