プラズマエッチング処理の終点検出方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-139440
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319924
特許番号：特許第4007748号
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマ処理室内に反応ガスを間欠的に導入し、プラズマによって被処理基板をエッチング処理し、前記プラズマ処理室内のプラズマの所定波長の発光強度を信号として取出し、この発光信号の変化からエッチング処理の終点を検出する方法であって、この取出した発光信号を前記プラズマ処理室内への反応ガスの導入パルス周期よりも短いサンプリング周期で前記導入パルス周期に同期させて断続的に抽出し、この抽出した発光信号の強度の変化を示すデータを前記導入パルス周期の整数倍の一定時間毎に順次演算して平均化して移動平均処理し、この移動平均処理をサンプリング信号の周期で繰り返すことで得られた波形に基づいて発光強度の時間変化を観察し、変化点での発光強度を予め設定していた閾値と比較することでエッチングの終点を検出することを特徴とするプラズマエッチング処理の終点検出方法。

IPC (1件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01)

FI (1件)：

H01L 21/302 103

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平3-048423
特開昭60-050923
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-114885 出願人：三菱電機株式会社, 三菱電機エンジニアリング株式会社

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審査官引用 (8件)

特開平3-048423
特開平3-048423
特開昭60-050923

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