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J-GLOBAL ID：201202200543606371   整理番号：12A1099480

低ダメージ電子ビーム蒸着装置の開発

Development of Low Damage Electron Beam Deposition System

著者 (3件)： 山田実 (日立造船 開発セ) ,  山成淳一 (日立造船 開発セ) ,  清水祐輔 (日立造船 開発セ)
資料名： Hitz技報  (Hitz Technical Review)
巻： 73  号： 1  ページ： 7-14  発行年： 2012年07月31日 
JST資料番号： F0063A  ISSN： 1882-0018  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 当社は,汎用性の高い成膜方法であるEB(電子ビーム)蒸着法を用い,有機EL(electroluminescence)素子の有機層上にAl電極を低ダメージ,且つ低温で高速成膜する装置を開発した。EB蒸着による有機EL素子のAl電極成膜において,主なダメージ因子であるX線と反射電子の低減を図った。X線量低減のためにEBの加速電圧を下げ,反射電子量低減のためにルツボ周りの磁場最適化と反射電子トラップの設置を行い,さらに成膜高速化のためにCハースライナーとリフレクタを用いてAl材料とCuルツボの断熱を強化することにより,抵抗加熱蒸着法を用いて作成した素子とほぼ同等の素子特性を得ることができた。この時の成膜速度は抵抗加熱蒸着法の約8倍であり,さらに蒸着時の基板温度は抵抗加熱蒸着法より20°C以上低い40°C以下に抑制されることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *電子ビーム蒸着 ,  構成 ,  *蒸着装置 ,  発光ダイオード ,  エレクトロルミネセンス ,  層 ,  電極 ,  アルミニウム
準シソーラス用語： 成膜 ,  *有機EL素子 ,  有機層

分類 (2件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  発光素子  (NC03082G)

引用文献 (12件)：

• [1] A. Feuerstein, V. Bauer, H. Lammermann, M. Mayer, H. Ranke, Proceedings of the Annual Technical Conference, Society of Vacuum Coaters (1985) 42.
• [2] F. Hegner, A. Feuerstein, Solid State Technology 21 (1978)49.
• [3] NEDO,「高分子有機EL発光材料プロジェクト」(事後評価) 分科会 (2006), http://www.nedo.go.jp/iinkai/kenkyuu/ bunkakai/18h/jigo/16/1/index.html
• [4] C.-H. Chung, Y.-W. Ko, Y.-H Kim, C.-Y. Sohn, H. Y. Chu, S.-H. Ko Park, J. H. Lee, Thin Solid Films 491 (2005) 294.
• [5] B.J. Chen, X.W. Sun, S.C. Tan, Opt. Express 13 (2005) 937.

タイトルに関連する用語 (3件)： ダメージ ,  電子ビーム蒸着 ,  開発