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J-GLOBAL ID：201202200551180405   整理番号：12A1694792

YとSiを同時添加したZrアノード酸化皮膜の生成挙動とその誘電的性質

著者 (4件)： 石塚雅敏 (北大 大学院) ,  辻悦司 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 126th  ページ： 69  発行年： 2012年09月12日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電解コンデンサ ,  *ジルコニウム合金 ,  イットリウム添加合金 ,  ケイ素添加合金 ,  省資源 ,  *アノード酸化 ,  酸化膜 ,  *誘電性 ,  結晶化 ,  静電容量 ,  蒸着膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  電気化学インピーダンス ,  微細構造 ,  誘電率 ,  化成皮膜

分類 (2件)： LCR部品  (NA05030D) ,  化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  Zr ,  アノード酸化皮膜 ,  挙動 ,  誘電的性質