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J-GLOBAL ID：201202201388804567   整理番号：12A0850421

パルスレーザー蒸着法による高い結晶性を有するLiCoO₂エピタキシャル膜の高速度成長

High-Rate Growth of High-Crystallinity LiCoO₂ Epitaxial Thin Films by Pulsed Laser Deposition

著者 (2件)： OHNISHI Tsuyoshi (National Inst. Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN) ,  TAKADA Kazunori (National Inst. Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 5  号： 5  ページ： 055502.1-055502.3  発行年： 2012年05月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザー蒸着法はターゲットと成長した膜との間の組成のずれが比較的小さいので,複雑な酸化薄膜を形成するのに広く用いられている。そのずれは,小さいが完全には抑えきれず,アブレーションの条件に強く依存している。さらに,リチウムは酸素よりも軽いため,リチウム化合物の場合にはガス圧が影響する。言い換えれば,ターゲットと成長した膜との組成の相違はこれらのパラメータを調整することにより,制御可能である。本研究において,組成の制御によってリチウム過剰のターゲットから化学量論的なLiCoO₂を成長することに成功した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レーザ蒸着 ,  結晶度 ,  *コバルト酸塩 ,  *リチウム化合物 ,  レーザアブレーション ,  圧力 ,  パラメータ ,  *化学量論 ,  *蒸着膜 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： ガス圧

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (15件)：

• OHTA, N. Adv. Mater. 2006, 18, 2226
• IRIYAMA, Y. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, A821
• YAMADA, I. J. Power Sources. 2007, 172, 933
• SAKAMOTO, K. Chem. Mater. 2009, 21, 2632
• YAMAMOTO, K. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 4414

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザー蒸着 ,  結晶性 ,  エピタキシャル膜 ,  高速度 ,  成長