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J-GLOBAL ID：201202201734458468   整理番号：12A1202297

HP,HIPとキャニング-HIPプロセスによるスパッタリングクロムターゲットの微細構造,電気抵抗および機械的性質に関する研究

Study on the microstructures, electrical resistance and mechanical properties of sputtering chromium target by HP, HIP and canning-HIP processes

著者 (3件)： CHANG Shih-hsien ,  LU Chung-wei ,  CHEN Jhewn-kuang
資料名： International Journal of Refractory Metals & Hard Materials  (International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻： 35  ページ： 70-75  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： H0059B  ISSN： 0263-4368  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 近年,金属表面被覆処理やフラットパネルディスプレイに純粋なクロム(Cr)ターゲットが一般的に使用されてきた。純粋なCrターゲットの伝統的な製造において,鋳造方法が多く活用されている。しかし,金属インゴットは頻繁に成分の分離,気孔率および不均一な微細構造欠陥の問題を起こす。良好な微細構造と特性を持つ高融点材料製造のために粉末冶金(PM)は良い方法である。本研究ではPM技術のホットプレス(HP),熱間静水圧プレス(HIP)及びキャニング-HIP使用してCrのターゲットを製造した。実験結果は,HP-HIP製Crのターゲットは密度および機械的性質をさらに向上させることができた。相対密度は98.8%から99.3%に増加した。特にCrターゲットのキャニング-HIPは小さい粒径(50μm),約0.3%の低い気孔率を提供し,相対密度を99.7%まで,TRSを最高58MPaまで増加した。キャニング-HIP処理は最適な電気抵抗率(8.003×1010^-5Ω-cm)を示し,スパッタリングプロセスにおける応用に適していた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *クロム ,  *ターゲット ,  スパッタリング ,  *ホットプレス ,  *HIP【ホットプレス】 ,  相対密度 ,  *空隙率 ,  *電気抵抗率 ,  粒径 ,  焼結体 ,  微小硬さ ,  破断強さ ,  スパッタリング装置 ,  圧粉 ,  フラットパネルディスプレイ ,  缶詰 ,  物 ,  機械的性質 ,  強度
準シソーラス用語： *キャニング-HIP

分類 (3件)： 圧粉,焼結  (WC02030X) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  電気的性質  (WB02010Y)

タイトルに関連する用語 (8件)： HP ,  HIP ,  キャニング ,  プロセス ,  微細構造 ,  電気抵抗 ,  機械的性質 ,  研究