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J-GLOBAL ID：201202202656786980   整理番号：12A1523420

HF/HNO₃混合物中でのウエット化学エッチング中におけるシリコンの酸化に対する質量および電子平衡

Mass and Electron Balance for the Oxidation of Silicon during the Wet Chemical Etching in HF/HNO₃ Mixtures

著者 (4件)： ACKER Joerg (Lausitz Univ. Applied Sci., Senftenberg, DEU) ,  RIETIG Anja (Lausitz Univ. Applied Sci., Senftenberg, DEU) ,  STEINERT Marco (GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One Ltd. Liability Co. & Co., Dresden, DEU) ,  HOFFMANN Volker (IFW Dresden e.V., Dresden, DEU)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116  号： 38  ページ： 20380-20388  発行年： 2012年09月27日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2つの異なる手法を選択し,濃厚HF/HNO₃混合物中でのシリコンのウエット化学エッチングの化学量論を研究した。同時に,シリコンのエッチングによって形成される水素の量の平行測定をおこない,エッチング溶液および水素含有量の定量分析からの組み合わせ結果によって,HF/HNO₃混合物によるシリコンのウエット化学エッチングのはじめての質量および電子平衡が得られた。HNO₃-リッチHF/HNO₃混合物中では,確立された化学量論が確認できず,1モルのSiを酸化させるためにおよそ1.1molのHNO₃が必要であり,過剰なHNO₃はエッチング中でのN(III)種の大規模な蓄積および窒素酸化物の大規模な形成を導いた。印加された酸化剤に対する水素末端化シリコン表面の反応性に基づき,アルカリ性エッチング,HF媒体中での電気化学的エッチング,および濃厚HF/HNO₃混合物中でのエッチングを包含した包括的な取り扱いを提案した。

シソーラス用語： *フッ化水素 ,  *硝酸 ,  *混合物 ,  *湿式法 ,  *エッチング ,  *ケイ素 ,  化学量論 ,  物質収支 ,  電解エッチング
準シソーラス用語： *フッ酸 ,  *化学エッチング

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  エーロゾル  (CB11030Y) ,  分子化合物  (CE02000C)

タイトルに関連する用語 (9件)： HF ,  HNO3 ,  混合物 ,  化学エッチング ,  シリコン ,  酸化 ,  質量 ,  電子 ,  平衡