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J-GLOBAL ID：201202204481749885   整理番号：12A0991573

ガスフロースパッタ法により堆積したCoドープTiO₂薄膜の磁気特性と磁気光学特性

Magnetic and magneto-optical properties of Co-doped TiO₂ films deposited by gas flow sputtering

著者 (5件)： 佐久間洋志 (宇都宮大) ,  高橋新 (宇都宮大) ,  杉山友希 (宇都宮大) ,  田中直樹 (宇都宮大) ,  石井清 (宇都宮大)
資料名： 電気学会マグネティックス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： MAG-12  号： 57-66.68-69  ページ： 33-36  発行年： 2012年06月21日 
JST資料番号： Z0924A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ガスフロースパッタ法によりCoドープTiO₂薄膜を作製した。700°C以上の3%H₂/Ar中でアニールすることにより,室温で強磁性を示した。アニールに伴い,膜表面のCo濃度は低下した。Coが基板側に移動したり,クラスタ化している可能性がある。強磁性を示した試料は10²deg/cmオーダーの比較的大きなFaraday効果と磁気円二色性を示した。低い温度でアニールした試料は粒子形状を保つが,強磁性の発現には到達していない。

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,  気体流 ,  ドーピング ,  酸化チタン ,  *酸化物 ,  *薄膜 ,  強磁性 ,  Faraday効果 ,  磁気円二色性
準シソーラス用語： ガスフロー ,  ドープ ,  二酸化チタン ,  *酸化物薄膜

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (8件)：

• (1) S. T. Ochsenbein, Y. Feng, K. M. Whitaker, E. Badaeva, W. K. Liu, X. Li, and D. R. Gamelin:“Charge-Controlled Magnetism in Colloidal Doped Semiconductor Nanocrystals”, Nature Nanotech., Vol.4, No.10, pp.681-687 (2009)
• (2) H. Sakuma, T. Nagamatsu, T. Kashiwakura, and K. Ishii:“Magnetic and Magneto-Optical Properties of Co/Nb-Codoped TiO₂ Films Deposited by Gas Flow Sputtering”, J. Magn. Magn. Mater., Vol.322, No.7, pp.786-789 (2010)
• (3) N. Anzai, S. Yoshihara, T. Shirakashi, K. Kurokawa, and K. Ishii:“Photocatalytic Properties of Titanium Oxide Films Prepared by Gas Flow Sputtering Method”, Electrochemistry, Vol.72, No.10, pp.676-679 (2004) (in Japanese) 安在直人, 吉原佐知雄, 白樫高史, 黒川和成, 石井清:「ガスフロースパッタ法による光触媒皮膜の作製とその機能性に関する研究」, Electrochemistry(電気化学および工業物理化学), Vol.72, No.10, pp.676-679 (2004)
• (4) H. Sakuma, Y. Watanabe, K. Aramaki, K. S. Yun, K. Ishii, Y. Ikeda, and II. Kondo:“Microstructure and Magnetic Properties of Co-Doped ZnO Films Deposited by Gas Flow Sputtering”, Mater. Sci. Eng. B, Vol.173, No.1-3, pp.7- 10 (2010)
• (5) T. Sudo, H. Kondo, H. Sakuma, K. Ishii, K. Aramaki, K. S. Yun, and H. Kondo:“Oxygen Partial Pressure Dependences of Electrical and Optical Properties of Al-Doped ZnO Thin Films Grown by Gas Flow Sputtering at A Low Temperature”, Tech. Rep. IEICE, Vol.110, No.100, pp.25-29 (2010) (in Japanese) 須藤隆吉, 近藤裕邦, 佐久間洋志, 石井 清, 荒巻慶輔, 尹 炅成, 近藤洋文:「ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素流量依存性」, 信学技報, Vol.110, No.100, pp.25-29 (2010)

タイトルに関連する用語 (10件)： ガスフロー ,  スパッタ法 ,  堆積 ,  CO ,  ドープ ,  TiO2 ,  薄膜 ,  磁気特性 ,  磁気 ,  光学特性