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J-GLOBAL ID:201202205061187969   整理番号:12A0874147

ナノメッシュを利用した金属ナノドットの創製と構造評価

Formation of metal nanodots in (4x4) vanadium oxide nanomesh on Pd(111)
著者 (2件):
資料名:
号: 65  ページ: 107-108  発行年: 2012年05月31日 
JST資料番号: G0667A  ISSN: 0372-039X  CODEN: TOKHA6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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半導体デバイス産業では,ボトムアップ技術が注目されている。最近著者達は,Pd(111)表面上に作製された,酸化バナジウムメッシュを利用して,ビスマスや銀のナノドットの規則的自己組織化に成功した。ここでは更に,シリコン,ゲルマニウム,スズ,鉛などの元素のふるまいを系統的に調べている。実験では,STM,LEED,AES測定を用い,また密度汎関数理論に基づく,第一原理計算コード(VASP)により構造最適計算も行った。結果はシリコンを除いて,ビスマスや銀と同様にナノドットがメッシュ中のナノホールに形成可能であること,シリコンはナノメッシュそのものに吸着し,ナノドットの形成は困難と結論している。
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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