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J-GLOBAL ID：201202205613181839   整理番号：12A0507100

溶液処理した有機ケイ素化合物から転換したSiC_xO_y薄膜のチューナブル表面硬さと誘電定数

Tunable surface hardness and dielectric constant of SiC_xO_y thin film converted from solution-processed organosilicon compound

著者 (12件)： LEE Pyoung-Chan (Korea Automotive Technol. Inst., Materials and Components R&D Div., 330-912, Pungse-Myun, Chonan-Si, KOR) ,  LEE Pyoung-Chan (SAINT, Sungkyunkwan Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  KIM Sieun (SAINT, Sungkyunkwan Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  HWANG Taeseon (SAINT, Sungkyunkwan Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  OH Joon-Suk (SAINT, Sungkyunkwan Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  OH Yong-Soo (Central R&D Inst., Samsung Electro-Mechanics Co. Ltd, Maetan-dong, Yeongtong-gu, 443-743, Suwon, KOR) ,  PU Lyongsun (SAINT, Sungkyunkwan Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  KIM Byung-Woo (Sungkyunkwan Univ., Dep. of Chemical Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  LEE Youngkwan (Sungkyunkwan Univ., Dep. of Chemical Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  CHOI Hyouk Ryeol (Sungkyunkwan Univ., Dep. of Mechanical Engineering, 440-746, Suwon, KOR) ,  JEOUNG Sun Kyoung (Korea Automotive Technol. Inst., Materials and Components R&D Div., 330-912, Pungse-Myun, Chonan-Si, KOR) ,  NAM Jae-Do (SAINT, Sungkyunkwan Univ., Dep. of Polymer Sci. and Engineering, 440-746, Suwon, KOR)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 47  号： 11  ページ： 4540-4545  発行年： 2012年06月 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱処理で表面硬さと誘電定数に関する電気機械的性質が変更可能な無機薄膜を開発するため,溶液処理可能な前駆体であるデカフェニルシクロペンタシラン(DPCPS)を用いた。熱処理温度と環境条件を変えることにより,DPCPSの有機共有結合は種々の鎖切断反応で消失し,結果としてSiC_xO_yの硬い表面コーティング炭素とシリコンの軌道混成化により得られた。本研究で700°C以上の熱処理温度で作製した無機薄膜は鉛筆硬さ7Hと約2.3~2.5の誘電定数を達成し,それはシリカのそれよりも低く,それは炭素原子がSiO₂の原子格子構造に取り込まれたためと考えられる。大気環境中での熱処理により<700°Cでのアルゴン中よりも高い誘電定数が得られたが,700°C以上の温度での熱処理後の誘電定数はいずれの環境でも同様であった。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 炭化物 ,  酸化物 ,  ケイ素化合物 ,  セラミック膜 ,  *誘電体薄膜 ,  シラン誘導体 ,  有機ケイ素化合物 ,  *硬度 ,  *誘電率 ,  可変性 ,  電気機械効果 ,  *熱処理 ,  基板 ,  フッ化カルシウム ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  *スピンコーティング
準シソーラス用語： Siウエハ ,  *酸炭化けい素 ,  誘電定数

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  誘電体一般  (BM05010F) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

物質索引 (1件)： デカフェニルシクロペンタシラン

タイトルに関連する用語 (7件)： 溶液処理 ,  有機ケイ素化合物 ,  転換 ,  薄膜 ,  チューナ ,  表面硬さ ,  誘電定数