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J-GLOBAL ID：201202205909548428   整理番号：12A0637643

プラズモン増強亜波長レーザアブレーション プラズモンナノジェット

Plasmon-Enhanced Sub-Wavelength Laser Ablation: Plasmonic Nanojets

著者 (20件)： VALEV Ventsislav K. (Katholieke Universiteit Leuven, BEL) ,  DENKOVA Denitza (Katholieke Universiteit Leuven, BEL) ,  ZHENG Xuezhi (Katholieke Universiteit Leuven, Leuven, BEL) ,  KUZNETSOV Arseniy I. (Data Storage Inst., Singapore) ,  REINHARDT Carsten (Laser Zentrum Hannover e.V., Hanover, DEU) ,  CHICHKOV Boris N. (Laser Zentrum Hannover e.V., Hanover, DEU) ,  TSUTSUMANOVA Gichka (Sofia Univ., Sofia, BGR) ,  OSLEY Edward J. (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  PETKOV Veselin (Katholieke Universiteit Leuven, BEL) ,  DE CLERCQ Ben (Univ. Hasselt and transnational Univ. Limburg, Diepenbeek, BEL) ,  SILHANEK Alejandro V. (Univ. Liege, Sart Tilman, BEL) ,  JEYARAM Yogesh (Katholieke Universiteit Leuven, BEL) ,  VOLSKIY Vladimir (Katholieke Universiteit Leuven, Leuven, BEL) ,  WARBURTON Paul A. (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  VANDENBOSCH Guy A. E. (Katholieke Universiteit Leuven, Leuven, BEL) ,  RUSSEV Stoyan (Sofia Univ., Sofia, BGR) ,  AKTSIPETROV Oleg A. (Moscow State Univ., Moscow, RUS) ,  AMELOOT Marcel (Univ. Hasselt and transnational Univ. Limburg, Diepenbeek, BEL) ,  MOSHCHALKOV Victor V. (Katholieke Universiteit Leuven, BEL) ,  VERBIEST Thierry (Katholieke Universiteit Leuven, BEL)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 24  号： 10  ページ： OP29-OP35  発行年： 2012年03月08日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化ケイ素/ケイ素基板上にポリメタクリル酸メチル層を形成し,電子線リソグラフィーによりパターンを形成した。クロム/金(33nm)層を蒸着し,PMMAを除去して金試料を作製した(A)。エネルギー分散X線分光分析,走査電子顕微鏡,電子後方散乱,二次電子イメージングによりキャラクタリゼーションを行った。フェムト秒偏光レーザ照射による表面プラズモン共鳴ホットスポットにおける金の融解に伴うナノバンプの生成を第二高調波発生顕微鏡により観察した。ナノジェット発生のレーザ光閾強度を求めた。

シソーラス用語： 共鳴 ,  *レーザアブレーション ,  酸化ケイ素 ,  ウエハ【IC】 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  電子ビームリソグラフィー ,  パターン形成 ,  クロム ,  *金 ,  蒸着 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  走査電子顕微鏡 ,  後方散乱 ,  二次電子放出 ,  パルスレーザ ,  偏光分光法 ,  *プラズマ共鳴 ,  *融解 ,  第二高調波発生 ,  閾値 ,  噴流 ,  フェムト秒レーザ
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  ジェット【噴流】 ,  プラズモン共鳴 ,  電子後方散乱 ,  電子線リソグラフィー ,  表面プラズモン共鳴

分類 (4件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W) ,  溶込,溶滴移行,溶融池  (WC07090U) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズモン ,  増強 ,  波長 ,  レーザアブレーション